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MOS管的工藝流程具體是怎么操作呢?

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瀏覽:- 發(fā)布日期:2020-02-26 15:22:38【

MOS也叫場(chǎng)效應(yīng)管,是電源電路中非常敏感的電子元器件,主要起開關(guān)的作用。在市場(chǎng)上我們見到的大大小小的品牌MOS管,除絲印之外,看上去外表都一樣,大小相當(dāng),并無實(shí)質(zhì)性差別。然而,要成為一顆率、高品質(zhì)的MOS管,要通過各種測(cè)試以及老化。

 MOS主要的工藝流程:

 1.將硅單晶切成大圓片,并加以研磨、拋光。

 2.拋光后的片子經(jīng)仔細(xì)清洗后,熱生長(zhǎng)一層二氧化硅層。(一次氧化)

 3.用光刻技術(shù)可除漏、源擴(kuò)散窗口上的二氧化硅。(一次光刻)

 4.進(jìn)行選擇性的雜質(zhì)擴(kuò)散。

 5.去處所有二氧化硅,重新生長(zhǎng)一層質(zhì)量良好的柵極二氧化硅層,并進(jìn)行磷處理。(二次氧化+磷處理)

 6.刻除漏、源引線窗口上的二氧化硅。(二次光刻)

 7.在真空系統(tǒng)中蒸發(fā)鋁。(鋁蒸發(fā))

 8.反刻電極。

 9.進(jìn)行合金。

 10.檢出性能良好的管芯,燒焊在管座上,鍵合引線。

 11.監(jiān)察質(zhì)量(中測(cè))

 12.封上管帽,噴漆。

 13.總測(cè)。

 14.打印,包裝。


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